Zařízení pro chemické nanášení keramických vrstev z par prekurzorů
|
|
|
Předmětem zakázky je zařízení pro chemické nanášení keramických vrstev z par prekurzorů, které je složeno ze dvou jednotek:Zakázka je rozdělena na 2 části:Část 1: Nízkoteplotní MOCVD jednotka (1100 °C)Část 2: Vysokoteplotní slinovací CVD jednotka (1600 °C) Předmětem zakázky je kombinované zařízení pro nanášení vícesložkových keramických vrstev z organokovových prekurzorů metodou MOCVD při teplotách do 1100 °C s následným reakčním slinováním s vrstvami nanasenými metodou CVD při 1600 °C. Zařízení je složeno ze dvou jednotek - nízkoteplotní MOCVD jednotky pracující při programovatelné teplotě v rozmezí 20 až 1100 °C a vysokoteplotní slinovací CVD jednotky pracující při programovatelné teplotě v rozmezí 100 až 1600 °C. Obě jednotky musí umožňovat práci za vakua a v řízené atmosféře. Teplota, tlak i složení atmosféry musí být řízené digitálně nejlépe prostřednictvím PC.Dodávka obou částí zařízení bude realizována včetně instalace, uvedení do provozu a zaškolení obsluhy.Dodavatel může podat nabídku do jedné nebo do obou částí této zakázky. Dodavatel prokáže splnění technických parametrů po instalaci na místě plnění, kde dojde k demonstraci a ověření technických parametrů přístrojů a k protokolárnímu předání a převzetí zadavatelem a dodavatelem.